OLED之均一性詳解

關鍵字 :OLED均一性DEMURA

OLED(有機發光二極體)技術,作為一種先進的顯示技術,近年來在顯示領域取得了顯著的發展。其均勻性,作為評估OLED螢幕品質的重要指標之一,對於使用者體驗和螢幕性能具有重要影響。

 

在智慧型手機螢幕的奈米世界中,每平方公分分布著超過50萬個有機發光二極體(OLED)。這些肉眼無法看見的像素點本應遵循統一的發光規律,卻在微觀尺度上演出令人驚嘆的差異性表現。OLED的均勻性,這個決定螢幕品質的核心指標,正引發一場橫跨材料科學、精密製造與演算法工程的科技革命。

 

OLED均勻性的定義

 

OLED均一性主要指的是螢幕發光亮度和顏色的均勻程度。在理想的OLED螢幕中,每個像素點應該發出相同亮度和顏色的光,從而確保影像的一致性和清晰度。然而,在實際應用中,由於製造工藝、材料特性和電路設計等因素,OLED螢幕的均一性往往存在一定的差異。

 

影響OLED均勻性的因素:

 

一、有機發光層的先天差異

 

  1. 材料壽命梯度
    RGB 三色有機材料的半衰期差異可達 3000 小時(藍光材料的壽命通常比紅綠光短 40%),這種內在特性導致螢幕使用 2000 小時後,藍光像素亮度衰減比紅綠光快 15%,形成肉眼可見的色彩偏移。
  2. 蒸鍍厚度波動
    在真空蒸鍍工藝中,金屬遮罩的5μm孔徑會產生±1.2%的蒸鍍偏差。當有機層厚度偏離設計值3Å(0.3nm)時,電子空穴複合效率下降5%,直接影響發光均勻性。三星採用的線性蒸鍍源技術,透過128個獨立溫控單元將膜厚波動控制在±0.8%。

 

二、TFT背板的電流戰爭

 

  1. 閾值電壓漂移
    非晶矽TFT在持續運作後,閾值電壓(Vth)會產生20-50mV的漂移,導致像素電流變化達8%。京東方的7T1C補償電路透過即時電壓回饋,將電流波動壓縮至1.5%以內。
  2. 背板均勻性缺陷
    在G6代玻璃基板上,邊緣與中心區域的TFT遷移率差異可達15%,這會導致螢幕邊緣亮度比中心低3-5%。LGD開發的雷射退火補償技術,透過3000個溫度監控點將遷移率差異控制在2%以內。

 

三、封裝技術的隱形戰場

 

  1. 水氧滲透路徑
    傳統薄膜封裝 (TFE) 的針孔缺陷密度約為 0.3 個/cm²,單個缺陷點會導致周邊 2mm 區域提前老化。三星的 Hybrid 封裝技術結合無機層 (Al₂O₃) 與有機層 (PI),將水汽透過率 (WVTR) 從 10⁻³ g/m²/day 降至 10⁻⁶ 級別。
  2. 熱應力形變
    螢幕在85℃高溫下運作時,封裝層與TFT背板的熱膨脹係數差異(CTE=7.2 vs 3.8 ppm/℃)會產生0.05%的微應變,導致局部剝離失效。康寧開發的CT匹配玻璃,將CTE差值縮小到0.5ppm/℃。

 

四、驅動系統的動態平衡

 

  1. 亮度補償演算法
    LGD 的即時 DEMURA 技術以 512 個分區作為調控單元,透過 16bit PWM 調光實現 0.1% 的亮度補償精度。在顯示 HDR 內容時,該算法可將 1000nit 峰值亮度下的亮度差異從 12% 降至 2.5%。
  2. 色彩空間映射
    CIE1931標準色域與面板實際色域的偏差會導致ΔE>3的顯色誤差。蘋果的TrueTone技術透過每秒60次的色溫檢測,動態調整伽馬曲線,將色差控制在JNCD<1的範圍內。

 

五、環境因素的致命擾動

 

  1. 溫度梯度效應
    螢幕表面溫差每增加5℃,有機材料的退化速率會提升3倍。在-20℃的低溫環境下,OLED的發光效率會驟降40%,導致邊緣區域出現明顯的亮度衰減帶。
  2. 機械應力損傷
    摺疊螢幕在經過20萬次彎折後,中性層的偏移會導致TFT溝道產生0.02%的永久應變,進而使摺疊區域的亮度均勻性下降8%。UTG超薄玻璃的應用可將應變率控制在0.005%以下。

 

六、像素排列的視覺魔術

 

  1. 子像素渲染演算法
    Diamond Pentile排列透過像素共享將實際PPI效率提升至83%,但邊緣鋸齒問題需要基於卷積神經網路的抗鋸齒演算法進行補償。三星的AI超解析技術透過16層神經網路重建影像細節,將文字邊緣的銳度提升40%。
  2. 莫爾條紋抑制
    周冬雨排列」特有的GGRB結構會產生12°方向的干涉條紋。京東方開發的Fringe Field Switching演算法,透過像素電壓的動態調制,將莫爾條紋的可見度降低到CD≤0.3。

 

提高OLED均一性的方法:

 

一、分子級蒸鍍控制:從「霰彈槍」到「狙擊槍」

 

  1. 線性蒸鍍源革新
    三星的Linear Deposition Source(線性蒸鍍源)採用128段獨立溫控模組,將有機材料的飛行角度偏差從±15°壓縮至±2°,使G8.5代基板的膜厚均勻性達到±1.2%。相較於傳統點狀蒸鍍源,材料利用率從35%提升至85%。
  2. 金屬遮罩動態補償
    ULTRAMM™遮罩系統透過雷射干涉儀即時監測熱變形,每0.5秒調整一次張力控制。在蒸鍍過程中,可將5μm孔徑的位置偏移控制在±0.3μm以內,減少像素邊緣的鋸齒缺陷。

 

二、背板電路的量子化補償

 

  1. 7T1C像素電路設計
    京東方開發的7晶體管1電容架構,通過三級電流鏡補償,將TFT閾值電壓漂移的影響降低至0.8mV/千小時。在3000nit峰值亮度下,灰階均勻性誤差從12%降至2.5%。
  2. 低溫多晶矽(LTPS)升級
    採用準分子雷射退火(ELA)工藝,將多晶矽晶粒尺寸從0.1μm提升至0.3μm,電子遷移率突破600 cm²/(V·s),使面板邊緣與中心的亮度差異從5%縮小至1.2%。

 

三、封裝技術的原子級防禦

 

  1. 混合封裝結構
    三星QD-OLED採用「無機-有機-無機」三明治結構:10nm Al₂O₃層(ALD沉積)+5μm聚醯亞胺層(旋塗)+20nm SiNx層(PECVD),水氧透過率(WVTR)低至5×10⁻⁶ g/m²/day,將黑斑缺陷密度降低至0.01個/cm²。
  2. 柔性封裝應力管理

Corning® Willow Glass 的 CTE(熱膨脹係數)從 7.2 ppm/℃ 調整至 3.9 ppm/℃,與 PI 基板的匹配度提升 80%。在 20 萬次折疊測試後,封裝層剝離面積小於 0.05mm²。

 

四、驅動演算法的神經進化

 

  1. 即時DEMURA補償
    LG Display 的 AI-ISP 晶片整合了 256 個光感測器,以 120Hz 的頻率掃描螢幕亮度。結合深度強化學習模型,可在 0.5 毫秒內完成 512 區域的補償值計算,將 JNCD(色彩偏差)從 1.2 優化至 0.6。
  2. 動態伽瑪校正
    蘋果的ProMotion技術透過16位元色深映射,將標準Gamma 2.2曲線分解為65536個可調節節點。在環境光變化時,ΔE色差值穩定在0.8以下,有效解決低灰階色偏問題。

 

五、材料工程的壽命革命

 

  1. 超穩定藍光材料
    UDC 開發的 Hyper Blue 磷光材料,將藍光壽命從 1.5 萬小時提升至 8 萬小時(@1000nit)。透過引入環金屬銥配合物,使效率滾降率(Efficiency Roll-off)從 35%/decade 降至 12%。
  2. 量子點色彩增強層
    三星的QD-Color Converter採用無鎘量子點,光轉換效率達95%,色域覆蓋率從DCI-P3的97%提升至BT.2020的80%。透過奈米壓印技術,將像素級厚度誤差控制在±1.5nm。

 

六、環境自適應的智能調節

 

  1. 熱場均衡技術
    OPPO 的 Smart Thermal Spread 系統在螢幕中嵌入了 2000 個微型熱電偶,透過 PID 演算法動態調節驅動電流。在 -20℃ 的環境下,螢幕亮度波動從 40% 降至 8%。
  2. 應力補償算法
    華為昆侖玻璃搭載的Strain Sensor陣列可檢測0.005%的微應變,驅動IC根據曲率半徑即時調整像素電壓,使摺疊區域的亮度衰減率從8%降至0.7%。

 

七、像素排列的視覺優化

 

  1. AI子像素渲染
    三星的Neural Pixel引擎透過卷積神經網路(CNN)分析影像紋理,動態分配子像素亮度。在Diamond Pentile排列下,文字邊緣的鋸齒減少了70%,等效PPI提升至物理值的92%。
  2. 莫爾條紋消除演算法
    京東方開發的Fringe Field Modulation技術,在驅動波形中疊加12.5kHz高頻信號,將像素間的電磁干擾降低18dB。搭配GGRB像素排列,莫爾條紋可見度(VMA)從0.8降至0.2。

 

OLED均一性的重要性:

 

OLED 的均勻性對於使用者體驗具有重要影響。一個均勻性良好的 OLED 螢幕能夠呈現出更加清晰、生動的影像,提升觀看體驗。相反,均勻性較差的螢幕可能會出現亮度不均、色彩偏移等問題,嚴重影響觀看效果。

 

此外,OLED的均勻性也是衡量螢幕品質的重要指標之一。在高端顯示設備中,均勻性往往被作為重要的性能指標進行評估和比較。

 

綜上所述,OLED技術的均勻性對於螢幕品質和使用者體驗具有重要影響。透過優化製造工藝、選用高品質材料、改進電路設計以及採用補償演算法等方法,可以進一步提升OLED螢幕的均勻性,為使用者提供更高品質的觀看體驗。

 

問與答:

 

1.製造過程中哪些環節最容易破壞均一性?

A:

三大關鍵環節:

蒸鍍工藝:金屬遮罩5μm孔徑的熱變形會導致±1.2%的膜厚偏差

TFT背板:非晶矽晶體管遷移率差異引發8%的電流波動

封裝缺陷:0.3個/cm²的針孔缺陷使局部老化速率加快300%

 

2. 產業如何量化評估均一性?

A:

  • 亮度均勻性:ΔL/L_avg≤5%(DICOM標準)
  • 色度均勻性:Δu'v'≤0.006(CIE1976標準)
  • 灰階偏差:Gamma曲線偏離值<±0.1
  • 老化測試:經過1000小時加速老化後,亮度衰減率小於15%

 

3. 日常使用中哪些行為會加劇不均?

A:

長期高亮度:1000nit持續使用會加速有機材料的退化

局部靜止顯示:導航列等固定UI區域容易產生殘影

極端溫度:-20℃環境使邊緣亮度驟降40%

 

4.修復均一性的演算法如何實現:

A:

例如,Novatek NT37706A 透過其強大的 Demura 演算法團隊,成功解決了在均一性較差的面板上因不同頻率而導致的色度及亮度均一性差異問題。即使在工藝已定性的均一性差的玻璃上,只有更強大的演算法才能進行修復。此外,Novatek 的 LIR 功能也能將面板拆分成多個區域,進行亮度及色度的補償。

 

5. 未來技術將如何重塑均一性標準?

A:

  • Micro LED:像素級獨立控光消除傳統OLED的結構性不均
  • 印刷OLED:JOLED的30μm噴墨打印實現±2.1%膜厚精度

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